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普发真空打造全新硅谷创新中心 助力未来半导体行业发展

作者:时间:2021-12-27来源:电子产品世界收藏

12月10日,全球领先的真空解决方案供应商普发真空全新建立了一个规模达一万平方英尺的硅谷创新中心 (SVIC),这座最先进的真空技术研发中心位于美国加州圣何塞市白令大道 2381 号,启动后可创造 20 多个高科技工作岗位。

本文引用地址:http://www.lesgarconsaussi.com/article/202112/430592.htm

●   普发真空在未来半导体技术领域与客户开展协作

●   硅谷创新中心将帮助客户测试和评估新的真空解决方案

●   普发真空专家团队提供专业技术与知识支持

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普发真空持续为半导体市场以及分析、工业、研发市场提供领先的真空解决方案,凭借其在半导体领域丰富的应用实践以及集成化的产品,该硅谷创新中心将致力于为北美客户解决有关高真空技术的所有技术问题,便于客户在早期开发阶段就能测试和评估为其应用设计的新真空解决方案。此外,创新中心的专家和研究人员将为所有普发真空产品提供直接的专业技术支持,并与全球的普发真空研发部门建立无缝连接。

“普发真空致力于为半导体行业的客户推动创新,并支持未来技术的发展,为了践行这一愿景,我们打造了硅谷创新中心。”普发真空技术股份公司(Pfeiffer Vacuum Technology AG)首席执行官Britta Giesen 博士说。

在半导体工业中,真空技术被用于生产微处理器、存储介质、高清显示器等,主要涉及大量中型和大型前级泵,以及涡轮泵和测量仪器。另外,借助污染分析和泄漏检测系统,芯片制造商可以显著提高产量。

“随着微处理器生产的复杂性不断增加,与硅谷客户的直接合作对我们来说变得越来越重要,”普发真空北美销售副总裁 Ming Lee 表示,“为了与我们的客户进行更密切的合作,高效地设计出能解决他们技术挑战的真空产品和解决方案,硅谷创新中心及其专家团队将扮演至关重要的角色。”



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